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一種利用射頻激發氣體形成等離子體，在基底表面沉積薄膜的分析儀器。
可制備各種金屬膜、無機膜和有機膜，在半導體制造、太陽能電池、涂層技術、顯示面板等領域都有著廣泛的應用。
1.包括一個傳片腔和一個反應腔。傳片腔內配置了一個單臂真空機械手，容納2個卡匣，每個卡匣可裝載25片8寸或6寸晶圓。反應腔內有6個晶圓放置站，其中5個沉積站，1個傳片站。
2.配置的氣箱可配置8路氣路，包含了沉積工藝氣體和清潔氣體。可沉積SiO2, SiN薄膜。
3.人機界面交互方便，易操作。&nbs
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